TSMC下一代先進(jìn)工藝中，3nm將于明年量產(chǎn)，2nm將于2025年量產(chǎn)，下一步1nm工藝尚無(wú)明確計(jì)劃不過(guò)，工廠也差不多定下來(lái)了新竹科學(xué)園區(qū)相關(guān)負(fù)責(zé)人今天表示，TSMC下一個(gè)1nm工廠將設(shè)在朱克龍?zhí)秷@區(qū)

目前TSMC只是確定了前期選址，后面還有很多流程要走即使一切順利，先進(jìn)芯片工廠的建設(shè)周期也至少是3年，加上2025年2nm工藝量產(chǎn)和2028年以后1nm工藝量產(chǎn)

至于具體的技術(shù)細(xì)節(jié)就無(wú)從談起了，不過(guò)TSMC在2nm之后就會(huì)使用GAA晶體管技術(shù)，1nm也不會(huì)例外。

還有就是投資金額TSMC 3nm和5nm工廠的建設(shè)資金約為200億美元，1nm工藝的投資計(jì)劃高達(dá)320億美元，輕松超過(guò)2000億元人民幣成本比之前的工藝高很多

其中一個(gè)重要原因是下一代EUV光刻機(jī)目前AMSL的EUV光刻機(jī)可以滿足3nm工藝的需求，2nm以后的工藝會(huì)比高科技術(shù)的EUV光刻機(jī)更高型號(hào)是NXE:5200，價(jià)格從現(xiàn)在的1.5億美元飆升到4億多美元

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